姓名： 赵斌
通讯地址： 上海市军工路516号 上海理工大学材料科学与工程学院
邮编： 200093
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传真： 021-
个人简介
赵斌，男，生于1975年12月，博士，材料科学与工程学院教授，硕士生导师。中国材料研究学会青年委员会理事。
学习及工作经历：
2000年，硕士毕业于大连理工大学材料工程系；
2004年，博士毕业于清华大学材料科学与工程系；
2004年-2006年，日本东京大学，学术振兴会（JSPS）特别研究员；
2006年-2008年，日本国家产业技术综合研究所（AIST），特别研究员
2008年-2009年，中科院宁波材料技术与工程研究所，副研究员
2009年-至今，上海理工大学，教授。
主要荣誉奖励：
JSPS外国人特别研究员奖励基金获得者
上海市曙光学者
上海市青年科技启明星
浙江省钱江人才
主要研究领域及成就：
1．碳纳米管的化学气相沉积生长、结构调控和应用
曾在日本国家产业技术综合研究所先进碳材料研究中心任特别研究员，在碳纳米管的前沿研究领域积累了丰富的经验。回国后，主要开展了垂直排列高质量单壁碳纳米管阵列的化学气相沉积生长、结构调控和应用方面的研究。目前，相关研究已获得国家自然科学基金、上海市曙光计划和上海市青年科技启明星计划等项目的支持。
2．金属功能薄膜的制备、微结构和应用
主要开展大规模集成电路互连用金属及合金薄膜新型制备工艺的研究，包括超临界流体中薄膜沉积机理、及纳米材料制备和修饰的研究。目前，相关工作已获得国家自然科学基金和浙江省钱江人才计划等项目的支持。
到目前为止，在国内外发表学术论文近30篇，其中在ACS Nano,Acta Materialia等权威期刊发表SCI收录论文19篇。
近期在研项目：
1．国家自然科学基金：可用于纳滤膜制备的垂直排列单壁碳纳米管阵列的合成机理研究
2．国家自然科学基金：用于自形成扩散阻挡层的铜基稀合金薄膜在超临界流体中的沉积机理研究
3．上海市曙光计划：垂直排列单壁碳纳米管阵列的生长动力学研究及大面积生长
4．上海市青年科技启明星计划:水分辅助化学气相沉积法制备单壁碳纳米管阵列的研究
5．浙江省钱江人才计划:用于集成电路互连的铜合金薄膜新型制备技术研究
6．宁波市自然科学基金：集成电路铜互连Cu-Mn合金薄膜种子层的超临界流体沉积
7．国家973计划前期专项：基于垂直碳纳米管阵列的CO2气体分离滤膜研究（参加）
联系方式：
主电 话: 021-55271686
Email: zhaobin#usst.edu.cn
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